Создана установка плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах
Российское предприятие НИИТМ (Зеленоград, Москва) завершило разработку и выпустило опытный образец первой отечественной установки плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах. Это оборудование востребовано в программах по созданию российской микроэлектронной промышленности. Ранее аналогичные установки приобретались за рубежом, а имевшиеся отечественные работали с пластинами меньшего размера, что снижало количество готовых чипов и повышало их стоимость.
На разработку и создание действующей первой российской установки для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм ушло менее 4 лет (проект стартовал в 2021 году).
Разработанные и внедренные в оборудовании российские технологии позволяют работать не тол...