США продвигают законопроект, направленный на дальнейшее ограничение доступа Китая к оборудованию для производства чипов
В случае принятия эта мера запретит экспорт основного оборудования для производства полупроводников, включая системы иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолетовом излучении DUV и инструменты для криогенного травления.
Ведущие китайские производители микросхем, в том числе SMIC и Hua Hong, по-прежнему используют инструменты DUV от ASML для производства менее совершенных чипов. В Китае нет альтернативы системам EUV от ASML, а в мире возможности замены литографических машин DUV ограничены.
Предложенный закон MATCH предполагает переход от системы экспортного контроля, основанной на производственных мощностях, к гибридной модели, учитывающей критерии, связанные с компаниями и их аффилированностью. В результате такие компании, как SMIC, не смогут приобретать передовые инструменты для производства на заводах с отстающими техпроцессами и перенаправлять их на предприятия, способные выпускать продукцию на 7-нм техпроцессе.
США, судя по всему, нацелены на две основные категории оборудования — литографию и травление, — которые играют ключевую роль на основных этапах производства микросхем. Иммерсионная ультрафиолетовая литография необходима для перехода от зрелых технологий к передовым, а криогенное травление — для процессов с высоким соотношением сторон, таких как 3D NAND и усовершенствованные корпусированные микросхемы. Одновременное ограничение поставок обоих видов оборудования свидетельствует о явном намерении замедлить переход Китая к передовым технологиям и сдержать рост объемов памяти.
Закон MATCH ограничит техническое обслуживание и поддержку, а значит, может повлиять на дальнейшую эксплуатацию существующего оборудования, что усугубит ситуацию по сравнению с запретом на продажу новых инструментов. По мнению ICSmart, в случае принятия закон MATCH создаст краткосрочные проблемы для полупроводниковой промышленности Китая, в том числе ограничит доступ к передовому оборудованию и поставит под вопрос возможность обслуживания уже установленных инструментов. В долгосрочной перспективе это может еще больше усилить стремление Китая к большей самодостаточности в цепочке поставок полупроводников.
Это предложение усилило неопределённость для ведущих мировых поставщиков оборудования. После его принятия литографические системы ASML и оборудование для травления Tokyo Electron попадут под экспортный контроль США. Доля Китая в мировых продажах ASML в 2025 году снизилась до 33% по сравнению с 41% годом ранее. В отчете говорится, что к 2026 году этот показатель снизится примерно до 20%, поскольку ограничения препятствуют поставкам современных систем, а спрос на другие модели после первоначального всплеска снизился.
Последствия для ASML могут быть значительными. Как сообщает CNBC со ссылкой на аналитиков, закон затронет устаревшие инструменты для литографии, на долю которых приходится примерно 10–15% от общего объема продаж. В этом сегменте на долю Китая приходится около 50%, то есть потенциальный ущерб может составить около 5%.
Сообщение США продвигают законопроект, направленный на дальнейшее ограничение доступа Китая к оборудованию для производства чипов появились сначала на Время электроники.